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Dynamic SIMS(磁质谱仪)

磁质谱仪通常利用二次离子在磁场中偏转现象来确定离子的荷质比,能检测包括氢在内的所有元素及其同位素,深度分析灵敏度高达ppb(十亿分之一),常用于分析晶片中离子注入及痕量杂质。

优势 局限

- 灵敏度高达ppm至ppb
- 质量分辨可高达30000
- 高剥蚀速率,分析速度快
- 高深度分辨率
- 高动态范围
- 可以检测包括氢在内的所有元素及其同位素

- 样品须满足超高真空条件
- 须借助标样实现定量分析
- 分析具破坏性
- 无化学态信息



CAMECA IMS3f 磁质谱仪


典型磁质谱仪的工作原理。离子枪产生高能离子(1或2)并聚焦在样品表面(3), 使样品表面离子化,部分原子/离子继而脱离样品表面。这些二次离子透过离子透镜并根据其原子质量进行过滤,最后投射在电子倍增器(7,上),法拉第杯(7,下),或CCD屏幕(8)。


更多信息: http://en.wikipedia.org/wiki/Secondary_ion_mass_spectrometry