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TXRF(全反射X射线荧光谱仪)

低角度入射的X射线可以在样品表面产生全反射,并激发样品表面的元素形成特征X荧光谱线。全反射X射线荧光谱仪就是利用这种原理对被检测样品进行元素定量分析。该仪器常用于检测晶片表面的金属污染。

优势 局限

- 定量分析
- 检测限低 (108 ~ 109 / cm2)
- 可以分析8英寸和12英寸晶片

- 无法检测原子序数小于Si的元素
- 只适用于平滑样品
- 分析区域大