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PFIB 等离子聚焦离子束

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PFIB 等离子聚焦离子束

  • 分类:测试服务
  • 发布时间:2022-05-18 15:38:29
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概要:PFIB使用Xe氙作为离子源,Xe源电流2500nA,在离子材料去除上有更高的速率。双束PFIB配备SEM实时成像,用于1000微米以内大尺寸切片,芯片局部去层可配合NanoProbe。
概要:PFIB使用Xe氙作为离子源,Xe源电流2500nA,在离子材料去除上有更高的速率。双束PFIB配备SEM实时成像,用于1000微米以内大尺寸切片,芯片局部去层可配合NanoProbe。
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  1、项目定义:

  PFIB使用Xe氙作为离子源,Xe源电流2500nA,在离子材料去除上有更高的速率。双束PFIB配备SEM实时成像,用于1000微米以内大尺寸切片,芯片局部去层可配合Nano Probe。

 

  2、应用优势:

  由于其离子电流比Ga高38倍,适用于SEM定位大尺寸的切割,芯片热点位置可进行定点去层,大尺寸样品可以边切边观察,便于分析测试,配合Nano Probe、CAFM、EBSD制备,可以解决客户3D防撞TSV定点截面分析、MEMS结构无形截面分析、光芯片光路截面分析、失效孤品去层分析的需求。

 

 

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