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X射线光电子能谱（XPS）

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X射线光电子能谱（XPS）

  • 分类：测试服务
  • 发布时间：2022-05-18 16:54:34
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概要:
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　　1、项目介绍：

 

　　X射线光电子能谱仪利用X射线激发材料表面以下1纳米到10纳米范围内所逸出光电子的结合能及数量，从而得到X射线光电子能谱来测定样品中的元素构成及元素化学态和电子态。借助于离子束的剥蚀，X射线光电子能谱还能实现深度剖析，并广泛应用于薄膜各层及界面分析。胜科纳米拥有世界最高性能的XPS光电子能谱分析，发挥出在微小区域自动分析上的卓越功能。

　　拥有世界首创的扫描聚焦式X射线源，可对从最小7.5微米分析区域

　　获得高灵敏度的分析数据结果

　　全自动化分析，可以轻松地对绝缘样品达到自动中和效能

　　高性能深度分析，75x75mm样品台

　　全自动且高可靠度的测量，最佳能量分辨率低于0.48 eV（Ag3d5/2）

　　X射线光电子能谱 XPS主要应用于材料表面表征、元素化学价态、膜层深度测试；

 

　　（1）材料表面表征

　　信号来源：表面下1-10nm.

　　利用0-1300eV 宽谱确定表面元素/污染物信息。

　　利用精扫确定表面元素/污染物含量。

　　能量分辨率：~0.48eV

　　检测元素范围：Li~U

　　检测精度： 0.1~1.0 at%

　　因样品在运输过程中可能受空气污染物影响，胜科纳米将提供样品原貌表面分析，以及5nm溅射清理后的表面分析

 

　　（2）元素化学价态

　　利用元素精扫结果进行分峰分析，以获得相应元素化学价态。

　　元素价态可用于分析：表面氧化，卤素污染，化合物推定。

　　通过与深度结果综合分析，可以用于推测氧化层厚度。

 

　　（3）膜层深度测试

　　通过离子溅射剥离测试区域最外层，对样品进行逐层分析。

　　溅射深度：1-500nm

　　溅射深度精度：1-10nm

　　溅射离子源：氩离子

　　可用于推测氧化层深度，掺杂含量及深度，分析膜层结构。

 

　　2、应用案例：

 

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